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HMDS真空烤箱,MES系統HMDS烤箱

HMDS真空烤箱,MES系統HMDS烤箱

簡要描述:

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HMDS真空烤箱,MES系統HMDS烤箱主要用途:
      
在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節,涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。
HMDS真空烤箱特點:
1、
具有MES接口,可連接MES系統;
2、有權限操作員需掃碼后才可操作此設備,且自動記錄作業人員;

3、作業時掃碼可實現自動調取所需作業程序,作業員只需確認是否正確;自動記錄作業累計次數;

4、作業批號,作業人員,作業起止日期及時間,作業溫度曲線,作業條件,可自動生成Excel報表。

MES系統功能:

為企業生產管理人員進行過程監控與管理、保證生產正常運行,控制產品質量和生產成本提供了靈活有力的工具。
1、正確掌握在制品數量,及不良品的追蹤,降低在制品成本; 
2、 用條形碼追蹤產品序號,提高產品的售后服務水平; 
3、及時反應產品質量問題,追溯品質歷史,提高產品治理; 
4、 大幅減少現場手工作業,提高現場管理人員的生產力; 
5、充分掌握工具、設備的使用狀況,使制造資源高效運作; 
6、 強大的統計報表為企業管理決策提供實時、準確、可靠的生產數據,提高公司核心競爭力。
HMDS真空烤箱,MES系統HMDS烤箱技術指標:
1、內部尺寸(mm):350*350*350/450*450*450/550*550*65可定制尺寸

2、 材質: 外箱采用304不銹鋼或優質冷軋板噴塑,內箱采用316L醫用級不銹鋼 

3、溫度范圍: RT+10-250℃

4、溫度分辨率:0.1℃ 

5、 溫度波動度: ≤±0.5
?6 、真空度: ≤133pa(1torr) 

7、 潔凈度: class 100,設備采用無塵材料,適用100級光刻間凈化環境 
?8、 電源及總功率:AC 220V、380V±10% / 50HZ         

9、 控制儀表:人機界面
?10、 擱板層數:2層 

11、 HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量 

12、 真空泵:旋片式油泵或進口無油泵 
?13、 保護裝置: 低液位報警,HMDS藥液泄漏報警,超溫報警并斷開加熱,超溫保護,漏電保護,過熱保護等

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