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HMDS涂布機,hmds涂膠機工藝原理

發布時間:2019-04-12   點擊次數:2569次

HMDS涂布機,hmds涂膠機工藝原理

HMDS涂布機,hmds涂膠機用途
   在 MEMS 產品的研發過程中,在 PZ 層去膠之后發現有嚴重的側向腐蝕現象。這種現象可以直接從顯微鏡目檢中檢查出,而且在整個晶圓的表面呈現無規則的分布。這種過腐蝕現象會嚴重的影響到 MEMS 產品的性能。然兒涂膠前處理的HMDS 涂布只會影響到光刻膠與襯底之間的黏附性,對其他工藝參數的影響十分微小,這對于改善光刻膠與襯底之間的黏附性問題,是十分有利的。
HMDS涂布機,hmds涂膠機原理

在提升光刻膠的黏附性工藝中,實際上HMDS(六甲基二硅烷)并不是作為粘結劑所產生作用的,而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結構,從而使晶圓的性質由親水性表面轉變為疏水性表面。 

   光刻膠與晶圓表面之間的黏附性問題,除了受到分子鍵合的影響,還受到其他重要因素的影響。如表面的水分就是其中的主要因素,會減少黏附性,從而造成掀膠和側向腐蝕。HMDS 涂布是涂膠前對硅片表面進行處理,可以增加硅片表面水分子的接觸角,使硅片表面從親水性轉化為疏水性。
  HMDS 一般采用蒸汽涂布的方式。簡單評價晶圓的表面黏附性好壞,可以將晶圓進行 HMDS 涂布,然后在晶圓的表面滴一滴水珠,然后通過測量水珠的接觸角,來進行晶圓表面黏附性好壞的判斷。當接觸角角度越大,說明黏附性越好,也就意味著疏水性越強。
HMDS涂膠機技術指標

 

1設備名稱

HMDS涂膠機

2、設備型號

 JS-HMDS90

3、設備主要技術參數                                                          

3.1 內腔尺寸

450×450×450(mm)可選其他數據

3.2  材質

 外箱采用冷軋板噴塑、304不銹鋼,內箱采用316L醫用級不銹鋼

3.3 溫度范圍

 RT+10-200℃

3.4 溫度分辨率

 0.1℃

3.5 溫度波動度

 ±0.5

3.6 真空度

 133pa(1torr)

3.7 潔凈度

class 100,設備采用無塵材料,適用100級光刻間凈化環境

3.8電源及總功率

 AC 22±10% / 50HZ       總功率約2.5KW    

3.9 控制儀表

 人機界面

3.10擱板層數

 2層

3.11 HMDS控制

可控制HMDS藥夜添加量

3.12真空泵

油泵、干泵

 

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